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PROFILE 候補者プロフィール
- 候補者ID
- 3385
- 誕生年
- 1989年
- 性別
- 男性
- 学生の出身エリア
- 南アジア
- 大学のタイプ
- 日本の国立大学
- 卒業年度
- 2017年9月
- 学位
- 博士
- 特徴
上記ボタンより、候補者の詳細情報や選考招待などをお問い合わせ頂くことができる送信フォームにつながります。
SERVICE FLOW グローバル人材の検索から採用アプローチまでの流れ
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Step 1
検索
御社が今必要としている人材を、ご検索ください。候補者の職歴、専門、日本語力等が確認できます。
ただし候補者の氏名は伏せておりますので「候補者ID」を参考にしてください。 -
Step 2
問い合わせをする
プロフィール検索からご興味のある人材がいましたらプロフィール下部にある「この候補者が気になる」ボタンをクリックし、お気軽にお問い合わせください。
紹介手数料は採用が決定した時点で発生いたします。
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Step 3
採用に関するヒアリング
お問い合わせをいただいた候補者へのアプローチを開始するにあたり、御社の求人要項のヒアリングをさせていただきます。ヒアリング内容をもとに、候補者へのアプローチ、面談設定を行います。
弊社の人材紹介サービス全般、または特定の候補者の詳細なプロフィールにご関心がある方はこちらからお気軽にお問い合わせください。なお、紹介手数料は採用が決定した時点で発生いたします。問い合わせは無料になります。
アクティブ・コネクター
推薦の理由 RECOMMENDATION
【特筆すべき経験】
・静岡大学の電気工学の博士課程に在籍、2017年9月に卒業予定
・母国大学では電気・通信工学を専攻、主に物質科学やシリコンの物理等について学ぶ
・修士課程では、マイクロエレクトロニクスを専攻、論文では定電圧縦型 パワーMOSFETの電気的パラメータの最適化に関する研究に取り組む
・研究のためシンガポールのマイクロエレクトロニクスの企業で、エネルギー効率に関するインターンを8ヶ月経験
・2014年に来日、博士課程でシリコン絶縁機器に関連するマイクロエレクトロニク機器のエネルギ―効率を上昇させるための研究に取り組む
【スキル】
ソフトウェア: Synopsys (Workbench, Structure Editor)、Silvaco (ATHENA, ATLAS)、Cadence (VIRTUOSO layout suite)、 JMP、 Klarity ACE XP、 MATLAB、 Verilog、VHDL、 PSPICE、Java
ハードウェア: Electron beam lithography (EBL)、ultra-violet (UV) lithography、High, low and medium energy Ion Implanters、E-Beam PVD、Scanning electron microscope、Scanning tunneling microscope、Atomic force microscope
【日本語】
・日本語は来日後からずっと独学で勉強
・簡単な質問に答えることが可能